立体光刻极限微尺度3D机
立体光刻极限微尺度3D机

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生产厂家: 中国BMF

型      号:  nanoArch S130

购买日期: 1970/01/01

参考收费标准
开放机时安排
主要规格和技术参数
1.光源:UV-LED(405nm)2.加工材料: 405nm固化波段的通用型光敏树脂。可支持高硬度树脂(85shoreD,拉伸强度不低于85MPa)、耐高温树脂、生物兼容树脂。3.加工精度:2μm4.加工尺寸:模式1:单投影模式 3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)模式2:拼接模式 38.4mm(L)×21.6mm(W)×10mm(H)模式3:重复阵列模式 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)5.加工层厚:5~20μm6.文件格式:STL配备工业相机,可实现全幅面光学监控具备自动对焦功能配备高精密运动控制系统,XYZ运动轴的重复定位精度±0.5μm
主要功能及特色
立体光刻极限微尺度3D机,可用于3维、4维微纳结构与器件的制造研究,并兼顾超高的加工精度和宏观的加工尺寸,具有加工效率高,加工成本低,材料选择范围广等优点,适用于加工微尺度复杂三维结构,如:仿生学、微流控器件、生物医疗、微机械、微纳光学器件、新能源等。