双光子微纳三维打印系统 Two-Photon Micro-/Nano-3D Printing System
双光子微纳三维打印系统 Two-Photon Micro-/Nano-3D Printing System

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地      址:  瓯江实验室5号楼2楼大型仪器共享平台2020

生产厂家: Nanoscribe GmbH

型      号:  Photonic Professional GT2

购买日期: 1970/01/01

参考收费标准
开放机时安排
主要规格和技术参数
1、横向最小线宽:160 nm 2、二维横向分辨率:500 nm 3、额定激光扫描速度:10 mm/s 4、最大行程:100 x 100 mm2 5、可制备样品最大高度:≥ 8mm
主要功能及特色
对高分子感光材料进行超高精度的曝光,制备出最小的二维线宽可达160 nm以下,二维分辨率可达500 nm以下的电路图或者精密微纳米科研用器件。